Skip to main content

Login for students

Login for employees

Publication detail

Characterization of RF magnetron sputtered Ge2Sb2Te5 thin films towards PC RAM application.
Authors: Gutwirth | Wágner Tomáš | Bezdička | Přikryl | Vlček Milan | Frumar Miloslav
Year: 2008
Type of publication: článek ve sborníku
Name of source: Proceedings of ICTF14 & RSD2008
Publisher name: Ghent University
Place: Ghent
Page from-to: 207-210
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Charakterizace tenkých vrstev Ge2Sb2Te5 připravených RF magnetronovým naprašováním s ohledem na aplikace PC RAM. S ohledem na aplikace PC RAM byla provedena charakterizace tenkých vrstev Ge2Sb2Te5 připravených RF magnetronovým naprašováním . amorfní chalkogenidy, tenké vrstvy, magnetronové naprašování, Ge2Sb2Te5
eng Characterization of RF magnetron sputtered Ge2Sb2Te5 thin films towards PC RAM application. RF magnetron sputtered Ge2Sb2Te5 thin films towards PC RAM application were characterized. amorphous chalcogenides, thin films, magnetron sputtering, Ge2Sb2Te5