Skip to main content

Login for students

Login for employees

Publication detail

Depozice tenkých vrstev Ge2Sb2Te5 technikou radiofrekvenčního magnetronového naprašování.
Authors: Gutwirth | Wágner Tomáš | Bezdička | Orava | Kotulanová | Vlček Milan | Frumar Miloslav
Year: 2008
Type of publication: článek ve sborníku
Name of source: Chemické listy
Publisher name: Česká společnost chemická
Place: Praha
Page from-to: 685
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Depozice tenkých vrstev Ge2Sb2Te5 technikou radiofrekvenčního magnetronového naprašování. Byla studována depozice tenkých vrstev Ge2Sb2Te5 technikou radiofrekvenčního magnetronového naprašování. amorfní chalkogenidy, magnetronové naprašování, Ge2Sb2Te5
eng Deposition of Ge2Sb2Te5 thin films using radio-frequency magnetron sputtering technique. Deposition of Ge2Sb2Te5 thin films using radio-frequency magnetron sputtering technique was studied. amorphous chalcogenides, magnetron sputtering, Ge2Sb2Te5