Publication detail

On angle resolved RF magnetron sputtering of Ge-Sb-Te material doped by Si or Se.

Year: 2008

Type of publication: článek ve sborníku

Name of source: Program and Exhibit Guide: MRS Spring meeting 2008

Publisher name: MRS (Materials Research Society)

Place: San Francisco

Page from-to: 114

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Úhlově rozlišené RF magnetronové naprašování materiálů Ge-Sb-Te dotovaných Si nebo Se.	Byla provedena charakterizace úhlově rozlišeného RF magnetronového naprašování tenkých vrstev Ge-Sb-Te dotovaných Si nebo Se.	amorfní chalkogenidy, tenké vrstvy, naprašování
eng	On angle resolved RF magnetron sputtering of Ge-Sb-Te material doped by Si or Se.	Characterization of angle resolved RF magnetron sputtered Ge-Sb-Te thin films doped by Si or Se was performed.	amorphous chalcogenides, thin films, sputtering

Search