Skip to main content

Login for students

Login for employees

Publication detail

Limits of the copper decoration technique for delineating of the V?I boundary.
Authors: Válek | Stehlík | Orava | Ďurík | Šik | Wágner Tomáš
Year: 2007
Type of publication: článek v odborném periodiku
Name of source: Journal of Physics and Chemistry of Solids
Publisher name: Pergamon-Elsevier Science Ltd.
Place: Oxford
Page from-to: 1157-1160
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Limity dekorační techniky za použití měďi pro vykreslení rozhraní V?I. Byly studovány limity dekorační techniky za použití měďi pro vykreslení rozhraní V?I. polovodiče, růst krystalů, defekty
eng Limits of the copper decoration technique for delineating of the V?I boundary. Limits of the copper decoration technique for delineating of the V?I boundary were studied. semiconductors, crystal growth, defects