University of Pardubice Faculty of Chemical Technology

University

Employees
|
Students
Česky

Publication detail

Glasses for lithography

Authors: Jain H. | Vlček Miroslav

Year: 2005

Type of publication: ostatní - přednáška nebo poster

Name of source:

Publisher name:

Place:

Page from-to:

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Skla pro litografii	V práci je uveden přehled materiálů využívaných jako rezisty se zaměřením na jejich rozlišovací schopnost. Je ukázano, že anorganické fotorezisty by měly mít vyšší rozlišovací schopnost než polymerní díky menší velikosti základních strukturních jednotek. Jsou uvedeny výsledky dokumentující, že chalkogenidová skla mohou být vhodnými fotorezisty s extremně vysokou rozlišovací schopností.
eng	Glasses for lithography	In this paper we present an overview of the resist materials, especially with regard to limiting resolution. In principle, inorganic resists should have higher limiting resolution than polymer resists due to smaller fundamental structural units and stronger bonds in the former. However, compositional and/or structural inhomogeneities may limit their ultimate resolution. New results are presented that indicate chalcogenide glasses as promising photo and electron beam resists, which also have the advantages of greater hardness, resistance to acids, easy fabrication in thin film form, and the unique phenomena like radiation enhanced diffusion.	inorganic resist, resolution limit