Skip to main content

Login for students

Login for employees

Publication detail

Development of 3-D Ag-doped chalcogenide glass hard masks using dry reactive ion etching (RIE)
Authors: Vlček Miroslav | Kovalskyi A. | Jain H. | Waits C.M. | Dubey M.
Year: 2005
Type of publication: ostatní - přednáška nebo poster
Name of source:
Publisher name:
Place:
Page from-to:
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Vývoj stříbrem dopovaných, vysoce odolných 3-D masek na bázi chalkogenidů pomocí techniky RIE Byla studována možnost využití binárního systému Ag - chalkogenidové sklo pro tvorbu vysoce odolných 3-D masek. Byly studovány parametry suchého leptání s cílem dosáhnout co nejvyšší selektivity suchého leptání.
eng Development of 3-D Ag-doped chalcogenide glass hard masks using dry reactive ion etching (RIE) Possibility to apply binary system Ag-chalcogenide film as 3-D hard mask was studied. Parameters of dry reactive ion etching were evaluated to achieve high selectivity of dry etching. reactive ion etching, chalcogenide film