Publication detail

Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering

Authors: Skoupil Pavel | Cameron David | Kalenda Petr

Year: 2006

Type of publication: článek ve sborníku

Name of source: Conference Papers CCT 2006

Publisher name: Univerzita Pardubice

Place: Pardubice

Page from-to: 500-507

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Příprava tenkých filmů oxidu niobičného pomocí reaktivního naprašování magnetronem	Tenké filmy oxidu niobičného byly deponovány na silikonove, titanové a sklenéné substráty procesem PVD. Terče z čistého niobu byly zdroj k odpaření. Směs argon kyslík byla použita jako reaktivní atmosféra v naprašovací komoře.	FTIR, filmy, vodivost, Ramanova spektroskopie, oxid niobičný
eng	Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering	Thin films of niobium oxide were deposited on silicon wafer, titanium and glass by the process of physical vapour deposition. Pure niobium solid target was used as a sputter source. Argon-oxygen admixture was introduced into the discharge chamber.	FTIR, films, conductivity, Raman spectroscopy, niobium oxide

Search