Publication detail

Nanostructuring of chalcogenide glasses using electron beam lithography

Authors: Vlček Miroslav | Jain Himanshu

Year: 2006

Type of publication: článek v odborném periodiku

Name of source: Journal of Optoelectronics and Advanced Materials

Publisher name: National Institute of Optoelectronics

Place: Bukurešť

Page from-to: 2108-2111

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Tvorba nanostruktur v chalkogenidových sklech pomocí elektronové litografie	Byla studována možnost tvorby nanostruktur v chalkogenidových sklech systému As-S pomocí elektronové litografie. Bylo prokázáno, že po expozici svazkem elektronů lze selektivně leptat tenké vrstvy těchto skel v aminových bázích, přičemž rychlost rozpouštění je lineárně závislá na expoziční dávce. Byla úspěšně realizována tvorba nanostruktur s motivy hluboko pod 100 nm v těchto sklech.
eng	Nanostructuring of chalcogenide glasses using electron beam lithography	We have investigated nanostructuring capabilities of As-S chalcogenide glasses using electron beam lithography. After exposure to electron beam the thin films of these inorganic glasses can be etched in alkaline amine solvent with high selectivity. Dissolution rate is linearly proportional to the electron dose and Gaussian electron beam intensity profile is well replicated in the shape of individual lines. High resolution smooth, shaped nanostructures have been fabricated in chalcogenide thin films with dimensions well below 100 nm and aspect ratio about 3	chalcogenide glass, nanostrusture, electron beam lithography

Search