Skip to main content

Login for students

Login for employees

Publication detail

Deposition techniques for chalcogenide thin films
Authors: Orava Jiří | Kohoutek Tomáš | Wágner Tomáš
Year: 2014
Type of publication: kapitola v odborné knize
Name of source: Chalcogenide Glasses: Preparation, Properties and Applications
Publisher name: Woodhead Publishing
Place: Cambridge
Page from-to: 265-309
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Depoziční techniky přípravy chalkogenidových tenkých vrstev Tato kapitola popisuje detaily depozičních technik, a to s tepelným odpařováním, rozprašování, pulzní laserové depozice, chemické depozice z plynné fáze a spin-coating na chalkogenidových tenkých vrstev. Je diskutována klíčová otázka, výhod a vlivu různých depozičních technik a experimentálních podmínek na vlastnosti připravených amorfních chalkogenidových tenkých vrstev. Konečné chemické složení, struktura a fyzikálně-chemické vlastnosti připravených vrstev předurčují jejich použití a naopak. Jejich aplikace jsou v mnoha oblastech, jako je například (nano) elektronika, (nano) optika, ukládání informací, bezpečnosti, ochrany zdraví a alternativních zdrojů energie.
eng Deposition techniques for chalcogenide thin films The chapter describes details of deposition techniques, namely thermal evaporation, sputtering, pulsed-laser deposition, chemical vapour deposition and spin-coating for chalcogenide thin films. We discuss key issues, advantages and influence of different deposition techniques and experimental conditions on properties of as-prepared amorphous chalcogenide thin films. The final chemical composition, structure and physico-chemical properties of the prepared films predetermine their application and vice versa. Their applications are in many fields such as (nano)electronics, (nano)optics, information storage, security, health protection and alternative energy sources. chalcogenide glasses; thin films deposition; physical vapour deposition; chemical vapour deposition