Publication detail

Temperature studies of optical parameters of (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) thin films prepared by rapid thermal evaporation and pulse laser deposition

Year: 2016

Type of publication: článek v odborném periodiku

Name of source: Optical Materials

Publisher name: Elsevier Science BV

Place: Amsterdam

Page from-to: 224-229

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Teplotní studie optických parametrů tenkých vrstev (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) připravených mžikovým termickým napařováním a pulzní laserovou depozicí	Tenké vrstvy (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) byly deponovány mžikovým termickým napařováním a pulzní laserovou depozicí. Optická propustnost tenkých vrstev byla studována v teplotním intervalu 77-300 K. S ohledem na silnou elektron-fononovou interakci bylo pozorováno Urbachovo chování optické absorpční hrany tenkých vrstev. Byly určeny hlavní parametry Urbachovy absorpční hrany. Teplotní závislosti polohy exponenciální absorpční hrany a Urbachova energie jsou dobře popsány Einsteinovým modelem.	tenké vrstvy; mžikové napařování; pulzní laserová depozice
eng	Temperature studies of optical parameters of (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) thin films prepared by rapid thermal evaporation and pulse laser deposition	(Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) thin films were deposited using rapid thermal evaporation (RTE) and pulse laser deposition (PLD) techniques. Optical transmission spectra of the thin films were studied in the temperature range 77-300 K. The Urbach behaviour of the optical absorption edge in the thin films due to strong electron-phonon interaction was observed, the main parameters of the Urbach absorption edge were determined. Temperature dependences of the energy position of the exponential absorption edge and the Urbach energy are well described in the Einstein model.	Thin film; Rapid thermal evaporation; Pulse laser deposition

Search

Login for students

Login for employees

Publication detail

Departments

Other Parts

Map

Services

Popular Links