Login for students

Login for employees

Publication detail

Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications
Year: 2019
Type of publication: článek v odborném periodiku
Name of source: Journal of Non-Crystalline Solids
Publisher name: Elsevier Science BV
Place: Amsterdam
Page from-to: 7-14
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Srovnání optických a chemických vlastností napařených a spin-coatingem deponovaných tenkých vrstev As-S s cílením na aplikace elektronové litografie V práci jsou porovnávány optické a chemické vlastnosti tenkých amorfních vrstev As30S70, As35S65 a As40S60 připravených metodami vakuového napařování a spin-coatingem. Strukturní a kompoziční rozdíly způsobené zvolenou depoziční technikou a podepozičními procesy byly zkoumány metodami Ramanovy spektroskopie a EDS. Použitelnost studovaných tenkých vrstevpro elektronovou litografii byla studována pomocí mono- a diaminových leptacích roztoků. Vakuově napařené tenké vrstvy vykazovaly negativní typ leptání a naopak spin-coatingem deponované tenké vrstvy pak leptání pozitivní. Studované tenké vrstvy se ukázaly jako vhodné pozitivní a negativní fotorezisty pro grey-scale a stel-like litografii. rozpouštění; skla; tloušťka
eng Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications Presented work compares optical and chemical properties of As30S70, As35S65 and As40S60 amorphous chalcogenide thin films deposited by thermal evaporation and by spin-coating. Structural and compositional differences given by the chosen deposition technique and post deposition treatment were revealed by Raman spectroscopy and EDS. Applicability of studied thin films in electron beam lithography was investigated using both monoamine and diamine based developers. Thermally evaporated thin films exhibited negative etching contrary to the spin-coated films which showed positive etching. Studied thin films proved to be suitable positive and negative photoresists for both grey-scale and step-like lithography. dissolution; glasses; thickness

Departments

Other Parts

Map

en.mapy.cz

Services

Popular Links

© 2023 University of Pardubice, Studentská 95, 532 10 Pardubice 2
Phone: +420 466 036 111, 466 036 112, 466 036 113
Webmaster, RSS
Data box ID: f5vj9hu
Accessibility Statement
CC BY-NC-ND 4.0Creative CommonsAttributionNonCommercialNoDerivatives