University of PardubiceFaculty of Chemical Technology

University

Employees
|
Students
Česky

Publication detail

STRUKTUROVÁNÍ TENKÝCH VRSTEV AMORFNÍCH CHALKOGENIDŮ POMOCÍ ELEKTRONOVÉ LITOGRAFIE

Authors: Pálka Karel | Jančálek Jiří | Kurka Michal | Šlang Stanislav | Vlček Miroslav

Year: 2019

Type of publication: ostatní - přednáška nebo poster

Page from-to: nestránkováno

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	STRUKTUROVÁNÍ TENKÝCH VRSTEV AMORFNÍCH CHALKOGENIDŮ POMOCÍ ELEKTRONOVÉ LITOGRAFIE	Chalkogenidová skla jsou intenzivně studovanými materiály zejména pro své výjimečné optické vlastnosti - vysoké hodnoty indexu lomu, širokou oblast propustnosti v infračervené oblasti spektra a častou fotocitlivost (v závislosti na složení, formě a historii vzorku). Fotoindukovaná změna chemické odolnosti spolu s dobrou rozpustností chalkogenidových skel v zásaditých roztocích může být využita pro jejich selektivní leptání. Řada praktických aplikací chalkogenidových skel vyžaduje řízené strukturování jejich povrchu. K tomu lze využít celou řadu metod jako např.: hot embossing, přímý zápis laserovým svazkem, či v případě fotocitlivých vzorků rozličné litografické metody. Pro přípravu mikro/nano-struktur lze s výhodou použít elektronové litografie, která umožňuje přípravu nanostruktur s rozměry až v řádech jednotek nanometrů [1]. Prezentovaná práce ukazuje možnosti využití elektronové litografie pro strukturování tenkých vrstev arsenových chalkogenidových skel. Pro vyvolání naexponovaných struktur bylo použito mokré leptání v organických lázních na bázi aminů. Byl studován vliv parametrů expozice elektronovým svazkem (urychlovací napětí a expoziční dávka), složení, metody depozice a teplotní historie vzorku na změnu chemické odolnosti chalkogenidového skla. Optimalizované parametry byly využity pro přípravu periodických a neperiodických mikro a nanostruktur.