Publication detail

Approximations of reflection and transmission coefficients of inhomogeneous thin films based on multiple-beam interference model

Year: 2019

Type of publication: článek v odborném periodiku

Name of source: Thin Solid Films

Page from-to: "137189-1"-"137189-17"

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Aproximace reflexnich a transmisnich koeficientu tenkych vrstev na zaklade modelu nekolikanasobnych odrazu	Interferenční model s více paprsky se používá k odvození přibližných vzorců pro koeficienty odrazu a transmise nehomogenních tenkých filmů vykazujících velké gradienty profilů indexu lomu. Je ukázáno, že tyto vzorce jsou tvořeny řadami obsahujícími termín Wentzel-Kramers-Brillouin-Jeffreys a korekční termíny s rostoucím pořadím odpovídajícím počtu uvažovaných vnitřních odrazů uvnitř filmů. Provádí se numerická analýza, která nám umožní ukázat vliv stupně nehomogenity na spektrální závislosti odrazivosti a elipsometrické parametry nehomogenních filmů. Jsou diskutovány výhody a nevýhody našeho přístupu ve srovnání s jinými přibližnými přístupy. Optická charakterizace vybraného nestechiometrického filmu z nitridu křemíku připraveného reaktivním magnetronovým naprašováním na silikonový monokrystalový substrát se provádí pro ilustraci použití našich vzorců v praxi.	Reflectance; Optická propustnost; Elipsometrické parametry; nehomogenní tenké vrstvy
eng	Approximations of reflection and transmission coefficients of inhomogeneous thin films based on multiple-beam interference model	A multiple-beam interference model is used to derive approximate formulae for the reflection and transmission coefficients of inhomogeneous thin films exhibiting large gradients of refractive index profiles. It is shown that these formulae are constituted by series containing the Wentzel-Kramers-Brillouin-Jeffreys term and correction terms with increasing order corresponding to number of considered internal reflections inside the films. A numerical analysis enabling us to show the influence of a degree of inhomogeneity on spectral dependencies of reflectance and ellipsometric parameters of inhomogeneous films is performed. Advantages and disadvantages of our approach compared with other approximate approaches are discussed. The optical characterization of a selected non-stoichiometric silicon nitride film prepared by reactive magnetron sputtering onto silicon single crystal substrate is performed for illustration of using our formulae in practice.	Reflectance; Transmittance; Ellipsometric parameters; Inhomogenous thin films

Search

Login for students

Login for employees

Publication detail

Departments

Other Parts

Map

Services

Popular Links