University of PardubiceFaculty of Chemical Technology

University

Employees
|
Students
Česky

Publication detail

Cyklické silylselenidy: organické sloučeniny selenu jako prekurzory pro depozice atomárních vrstev

Authors: Pokorný Daniel | Charvot Jaroslav | Zazpe Raul | Klikar Milan | Macák Jan | Bureš Filip

Year: 2020

Type of publication: ostatní - přednáška nebo poster

Page from-to: nestránkováno

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Cyklické silylselenidy: organické sloučeniny selenu jako prekurzory pro depozice atomárních vrstev	Zajímavé vlastnosti nanovrstev selenidů přechodných kovů lze s úspěchem využívat v elektronice, fotokatalýze a dalších mnoha aplikacích. Stále větší oblibu pro tvorbu tenkých filmů získává ALD (Atomic Layer Deposition), především díky schopnosti nanášet požadované vrstvy s minimálním počtem defektů na různě tvarované povrchy jako nanočástice nebo nanotrubice. Pro depozice selenidů však bylo testováno pouze několik látek, a to vysoce toxický H2Se nebo Et2Se, který však na rozdíl od příbuzné metody CVD neposkytuje uspokojivé výsledky. V roce 2009 představené bis(trialkylsilyl)selenidy s vysokou těkavostí a reaktivitou dosahují excelentních výsledků při depozicích tenkých vrstev. Nevýhodou bis(trialkylsilyl)selenidů je však jejich vysoká citlivost na vzdušnou vlhkost. Tato práce navrhuje tři cyklické silylselenidy, obsahující jeden či dva atomy selenu, s cílem zvýšit chemickou odolnost vůči vzduchu, avšak při ponechání požadovaných vlastností původní bis(trialkylsilyl) selenidové série. Popsaná syntéza cílových látek je doplněna strukturní analýzou pomocí GC/MS a NMR spektroskopie. Termální vlastnosti byly studovány s využitím DSC a TG analýz. Diskutována je i zmíněná odolnost vůči vzdušné vlhkosti a nakonec samotná depozice tenkých vrstev MoSe2 reakcí cyklického silylselenidu s MoCl5, kdy nejlepších výsledku bylo dosaženo za použití selenidu 3.	silylselenidy; ALD; termální vlastnosti; těkavost