Publication detail

Cyclic Silylselenides: Convenient Selenium Precursors for Atomic Layer Deposition

Year: 2020

Type of publication: článek v odborném periodiku

Name of source: ChemPlusChem

Publisher name: Wiley-VCH

Place: Weinheim

Page from-to: 576-579

Titles:

Language	Name	Abstract	Keywords
cze	Cyklické silylselenidy: Pohodlné prekurzory selenu pro depozici atomových vrstev.	Vlastnosti tří připravených cyklických silylselenidů byly laděny změnou velikosti kruhu a počtem vložených atomů selenu. Všechny silylselenidy byly dostatečně odolné proti vlhkosti a oxidaci, rovněž vykazovaly vysokou tepelnou odolnost a dostatečnou těkavost. Šestičlenný diselenid se ukázal jako výborný Se prekurzor pro ALD techniku, přičemž umožňoval snadnou přípravu MoSe2 vrstev. Struktura a složení těchto vrstev byly zkoumány Ramanovou a RTG fotoelektronovou spektroskopií a skenovací elektronovou mikroskopií, která odhalila vertikálně zarovnané vločkovité nanopláty.	Cyklické silylselenidy; nanostruktury; molybden; selen; depozice atomových vrstev
eng	Cyclic Silylselenides: Convenient Selenium Precursors for Atomic Layer Deposition	Three cyclic silylselenides were prepared in a straightforward manner. Property tuning has been achieved by varying the ring size and the number of embedded selenium atoms. All silylselenides possess improved resistance towards moisture and oxidation as well as high thermal robustness and sufficient volatility with almost zero residues. The six-membered diselenide proved to be particularly superior Se precursors for atomic layer deposition and allowed facile preparation of MoSe2 layers. Their structure and composition have been investigated by Raman and X-ray photoelectron spectroscopy as well as scanning electron microscopy revealing vertically aligned flaky shaped nanosheets.	atomic layer deposition; molybdenum; nanostructures; selenium; transition metal dichalcogenides

Search

Login for students

Login for employees

Publication detail

Departments

Other Parts

Map

Services

Popular Links