Login for students

Login for employees

Publication detail

Tailoring of Multisource Deposition Conditions towards Required Chemical Composition of Thin Films
Year: 2022
Type of publication: článek v odborném periodiku
Name of source: Nanomaterials
Publisher name: MDPI
Place: BASEL
Page from-to: 1830
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Ladění podmínek vícezdrojové depozice pro požadované chemické složení tenkých vrstev Je vyvinut model pro ladění požadovaného chemického složení tenkých vrstev připravených vícezdrojovou depozicí využívající základní fyzikálně-chemické konstanty výchozích materiálů. Model je experimentálně ověřen pro dvouzdrojovou depozici chalkogenidových tenkých vrstev ze systému Ga-Sb-Te (spojnice GaSb-GaTe a GaSb-Te). Tenké vrstvy jsou deponovány radiofrekvenčním magnetronovým naprašováním za použití terčů GaSb, GaTe a Te. Připravené tenké vrstvy jsou charakterizovány energiově-disperzní rentgenovou analýzou spojenou se skenovacím elektronovým mikroskopem pro určení chemického složení a spektrální elipsometrií s proměnným úhlem dopadu pro určení tloušťky vrstev. Je zjištěn dobrý souhlas mezi výsledky výpočtů a experimentálně určeným složením ko-deponovaných tenkých vrstev pro obě výše uvedené spojnice. Dále, přes použitá zjednodušení, navržený model je robustní pro obecné použití pro studie, kde je zkoumán vliv složení tenkých vrstev na jejich vlastnosti. tenká vrstva; depozice; naprašování; vícezdrojové naprašování; Ga-Sb-Te; výpočet; model
eng Tailoring of Multisource Deposition Conditions towards Required Chemical Composition of Thin Films The model to tailor the required chemical composition of thin films fabricated via multisource deposition, exploiting basic physicochemical constants of source materials, is developed. The model is experimentally verified for the two-source depositions of chalcogenide thin films from Ga-Sb-Te system (tie-lines GaSb-GaTe and GaSb-Te). The thin films are deposited by radiofrequency magnetron sputtering using GaSb, GaTe, and Te targets. Prepared thin films are characterized by means of energy dispersive X-ray analysis coupled with a scanning electron microscope to determine the chemical composition and by variable angle spectroscopic ellipsometry to establish film thickness. Good agreement between results of calculations and experimentally determined compositions of the co-deposited thin films is achieved for both the above-mentioned tie-lines. Moreover, in spite of all the applied simplifications, the proposed model is robust to be generally used for studies where the influence of thin film composition on their properties is investigated. thin film; deposition; sputtering; co-sputtering; Ga-Sb-Te; calculation; model

Departments

Other Parts

Map

en.mapy.cz

Services

Popular Links

© 2023 University of Pardubice, Studentská 95, 532 10 Pardubice 2
Phone: +420 466 036 111, 466 036 112, 466 036 113
Webmaster, RSS
Data box ID: f5vj9hu
Accessibility Statement
CC BY-NC-ND 4.0