Login for students

Login for employees

Publication detail

The Structural Modulation of Amorphous 2D Tungsten Oxide Materials in Magnetron Sputtering
Year: 2022
Type of publication: článek v odborném periodiku
Name of source: Advanced Materials Interfaces
Publisher name: John Wiley & Sons Ltd.
Place: Chichester
Page from-to: 2201790
Titles:
Language Name Abstract Keywords
cze Strukturní modulace amorfních 2D materiálů na bázi oxidu wolframu v magnetronovém naprašování 2D oxidové materiály si v aplikacích získaly obrovskou pozornost. Zde je popsána cesta syntézy 2D W03 materiálů prostřednictvím magnetronového naprašování. Depozice mezi 2D monovrstvami a strukturou tenkého filmu se provádí podle teploty substrátu. A 2D monovrstvy se tvoří pouze na chlazeném substrátu. Ag doping pomáhá exfoliovat 2D WO3 do volně stojících monovrstev, ve kterých je tloušťka 2D monovrstvy cca ≈3 nm. Příkladem použití vrstev je odporové spínání a fotokatalýza. V zařízení s 2D strukturou je jasný stav středního odporu. Při aplikaci fotokatalýzy se využívá vylepšené dvoukrokové exfoliace, čímž se dosáhne slohy monovrstev WO3 s velkým vnitřním objemem. Zvýšení účinnosti fotokatalýzy se dosáhne pomocí 2D WO3 po exfoliaci. magnetronové naprašování; odporová paměť s náhodným přístupem; dvourozměrné materiály
eng The Structural Modulation of Amorphous 2D Tungsten Oxide Materials in Magnetron Sputtering 2D oxide materials have gained tremendous attention in the applications. Herein, a synthesis route of 2D WO3 materials via magnetron sputtering is reported. A deposition between 2D monolayers and thin film structure are accomplished according to the temperature of substrate. And 2D monolayers are only formed on a cooled substrate. Ag doping helps to exfoliate 2D WO3 into freestanding monolayers, in which the thickness of 2D monolayer is only approximate to 3 nm. The ultralarge size of 2D WO3 shows unique features from the traditional 2D material. Resistive switching device and photocatalysis are discussed as examples of application. There is a clear intermediate resistance state in the device with 2D structure. And the failure of resistive switching device is closely related with the 2D structure of WO3. In the application of photocatalysis, an improved two-step exfoliation, achieving a stack of WO3 monolayers with a large internal volume, is utilized. The enhancements of photocatalysis are obtained with 2D WO3 after exfoliation. magnetron sputtering; resistive random-access memory; two-dimensional materials

Departments

Other Parts

Map

en.mapy.cz

Services

Popular Links

© 2023 University of Pardubice, Studentská 95, 532 10 Pardubice 2
Phone: +420 466 036 111, 466 036 112, 466 036 113
Webmaster, RSS
Data box ID: f5vj9hu
Accessibility Statement
CC BY-NC-ND 4.0Creative CommonsAttributionNonCommercialNoDerivatives