Amorfní chalkogenidové tenké vrstvy: fotoindukované jevy
Poskytovatel: Grantová agentura ČR
Program: Standardní projekty
Období realizace: 01.01.15 - 31.12.17
Pracoviště:
Fakulta chemicko-technologická - Katedra polygrafie a fotofyziky
Hlavní řešitel: Němec PetrSpoluřešitelé: Nazabal Virginie | Pavlišta Martin | Janíček Petr | Vlček Miroslav
Popis:
Záměrem projektu je využití pokročilých fyzikálních metod depozice tenkých vrstev (pulzní laserová depozice, radiofrekvenční magnetronové naprašování, apod.) pro přípravu tenkých amorfních chalkogenidových vrstev. Připravené tenké vrstvy budou studovány z pohledu fotoindukovaných změn probíhajících při expozici zářením s energií blízkou šířce zakázaného pásu energií. Pozornost bude věnována též hledání fotostabilních chalkogenidových tenkých vrstev. Fotoindukované jevy/fotostabilita budou zkoumány za účelem zjištění vlivu chemického složení tenkých vrstev, použité depoziční metody a depozičních podmínek. Výsledky projektu přispějí k prohloubení základního poznání o fenoménu fotoindukovaných jevů v amorfních chalkogenidech.
Záměrem projektu je využití pokročilých fyzikálních metod depozice tenkých vrstev (pulzní laserová depozice, radiofrekvenční magnetronové naprašování, apod.) pro přípravu tenkých amorfních chalkogenidových vrstev. Připravené tenké vrstvy budou studovány z pohledu fotoindukovaných změn probíhajících při expozici zářením s energií blízkou šířce zakázaného pásu energií. Pozornost bude věnována též hledání fotostabilních chalkogenidových tenkých vrstev. Fotoindukované jevy/fotostabilita budou zkoumány za účelem zjištění vlivu chemického složení tenkých vrstev, použité depoziční metody a depozičních podmínek. Výsledky projektu přispějí k prohloubení základního poznání o fenoménu fotoindukovaných jevů v amorfních chalkogenidech.
