Pokročilé metody přípravy tenkých vrstev chalkogenidů a jejich modifikace
Poskytovatel: Grantová agentura ČR
Program: Standardní projekty
Období realizace: 01.01.18 - 31.12.20
Pracoviště:
Fakulta chemicko-technologická - Katedra polygrafie a fotofyziky
Hlavní řešitel: Němec Petr
Popis:
V rámci projektu budou studovány pokročilé metody fyzikální depozice tenkých vrstev (radiofrekvenční magnetronové naprašování, pulzní laserová depozice, apod.). Pozornost bude věnována též přípravě tenkých vrstev z roztoku metodou spin coating. Budou optimalizovány depoziční podmínky s cílem přípravy vysoce kvalitních tenkých vrstev chalkogenidů. Výchozí syntetizované depoziční materiály a připravené tenké vrstvy budou zevrubně charakterizovány strukturálními a optickými metodami. Tenké chalkogenidové vrstvy budou modifikovány jak působením teploty či světla, tak i pomocí dopantů. Výsledky projektu povedou k chalkogenidovým materiálům s inovativními vlastnostmi, složením a optimalizovanými podmínkami depozice jejich tenkých vrstev.
V rámci projektu budou studovány pokročilé metody fyzikální depozice tenkých vrstev (radiofrekvenční magnetronové naprašování, pulzní laserová depozice, apod.). Pozornost bude věnována též přípravě tenkých vrstev z roztoku metodou spin coating. Budou optimalizovány depoziční podmínky s cílem přípravy vysoce kvalitních tenkých vrstev chalkogenidů. Výchozí syntetizované depoziční materiály a připravené tenké vrstvy budou zevrubně charakterizovány strukturálními a optickými metodami. Tenké chalkogenidové vrstvy budou modifikovány jak působením teploty či světla, tak i pomocí dopantů. Výsledky projektu povedou k chalkogenidovým materiálům s inovativními vlastnostmi, složením a optimalizovanými podmínkami depozice jejich tenkých vrstev.
