Publikace detail

Characterization of RF magnetron sputtered Ge2Sb2Te5 thin films towards PC RAM application.

Rok: 2008

Druh publikace: článek ve sborníku

Název zdroje: Proceedings of ICTF14 & RSD2008

Název nakladatele: Ghent University

Místo vydání: Ghent

Strana od-do: 207-210

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Charakterizace tenkých vrstev Ge2Sb2Te5 připravených RF magnetronovým naprašováním s ohledem na aplikace PC RAM.	S ohledem na aplikace PC RAM byla provedena charakterizace tenkých vrstev Ge2Sb2Te5 připravených RF magnetronovým naprašováním .	amorfní chalkogenidy, tenké vrstvy, magnetronové naprašování, Ge2Sb2Te5
eng	Characterization of RF magnetron sputtered Ge2Sb2Te5 thin films towards PC RAM application.	RF magnetron sputtered Ge2Sb2Te5 thin films towards PC RAM application were characterized.	amorphous chalcogenides, thin films, magnetron sputtering, Ge2Sb2Te5

Vyhledávání