Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

On angle resolved RF magnetron sputtering of Ge-Sb-Te material doped by Si or Se.
Autoři: Wágner Tomáš | Gutwirth | Bezdička | Bartoš | Kotulanová | Vlček Milan | Orava | Frumar Miloslav
Rok: 2008
Druh publikace: článek ve sborníku
Název zdroje: Program and Exhibit Guide: MRS Spring meeting 2008
Název nakladatele: MRS (Materials Research Society)
Místo vydání: San Francisco
Strana od-do: 114
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze Úhlově rozlišené RF magnetronové naprašování materiálů Ge-Sb-Te dotovaných Si nebo Se. Byla provedena charakterizace úhlově rozlišeného RF magnetronového naprašování tenkých vrstev Ge-Sb-Te dotovaných Si nebo Se. amorfní chalkogenidy, tenké vrstvy, naprašování
eng On angle resolved RF magnetron sputtering of Ge-Sb-Te material doped by Si or Se. Characterization of angle resolved RF magnetron sputtered Ge-Sb-Te thin films doped by Si or Se was performed. amorphous chalcogenides, thin films, sputtering