Publikace detail

On angle resolved RF magnetron sputtering of Ge-Sb-Te material doped by Si or Se.

Rok: 2008

Druh publikace: článek ve sborníku

Název zdroje: Program and Exhibit Guide: MRS Spring meeting 2008

Název nakladatele: MRS (Materials Research Society)

Místo vydání: San Francisco

Strana od-do: 114

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Úhlově rozlišené RF magnetronové naprašování materiálů Ge-Sb-Te dotovaných Si nebo Se.	Byla provedena charakterizace úhlově rozlišeného RF magnetronového naprašování tenkých vrstev Ge-Sb-Te dotovaných Si nebo Se.	amorfní chalkogenidy, tenké vrstvy, naprašování
eng	On angle resolved RF magnetron sputtering of Ge-Sb-Te material doped by Si or Se.	Characterization of angle resolved RF magnetron sputtered Ge-Sb-Te thin films doped by Si or Se was performed.	amorphous chalcogenides, thin films, sputtering

Vyhledávání