Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Studium amorfních tenkých vrstev Agx(As0.4S0.6 )100-x připravených pulsní laserovou depozicí (PLD) a měření kinetiky difúze stříbra v PLD vrstvě As33S67.
Autoři: Krbal M. | Wágner Tomáš | Jedelský Jaroslav | Vlček Milan | Frumarová Božena | Frumar Miloslav
Rok: 2005
Druh publikace: ostatní - přednáška nebo poster
Název zdroje: ChemZi
Název nakladatele: Slovenská chemická spoločnosť pri SAV
Místo vydání: Bratislava
Strana od-do: 178
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze Studium amorfních tenkých vrstev Agx(As0.4S0.6 )100-x připravených pulsní laserovou depozicí (PLD) a měření kinetiky difúze stříbra v PLD vrstvě As33S67. Byly studovány amorfní tenké vrstvy Agx(As0.4S0.6 )100-x připravené pulsní laserovou depozicí (PLD) a měřena kinetika difúze stříbra v PLD vrstvě As33S67. tenké vrstvy, amorfní chalkogenidy, laserová depozice
eng Study of Agx(As0.4S0.6 )100-x amorphous thin films prepared by pulsed laser deposition (PLD) and measurement of the kinetics of Ag difussion in As33S67 PLD film. Agx(As0.4S0.6 )100-x amorphous thin films prepared by pulsed laser deposition (PLD) and measurement of the kinetics of Ag difussion in As33S67 PLD film were studied. thin films, amorphous chalcogenides, laser deposition