Univerzita PardubiceFakulta chemicko- technologická

Univerzita Pardubice

Zaměstnanci
|
Studenti
English

Publikace detail

Glasses for lithography

Autoři: Jain H. | Vlček Miroslav

Rok: 2005

Druh publikace: ostatní - přednáška nebo poster

Název zdroje:

Název nakladatele:

Místo vydání:

Strana od-do:

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Skla pro litografii	V práci je uveden přehled materiálů využívaných jako rezisty se zaměřením na jejich rozlišovací schopnost. Je ukázano, že anorganické fotorezisty by měly mít vyšší rozlišovací schopnost než polymerní díky menší velikosti základních strukturních jednotek. Jsou uvedeny výsledky dokumentující, že chalkogenidová skla mohou být vhodnými fotorezisty s extremně vysokou rozlišovací schopností.
eng	Glasses for lithography	In this paper we present an overview of the resist materials, especially with regard to limiting resolution. In principle, inorganic resists should have higher limiting resolution than polymer resists due to smaller fundamental structural units and stronger bonds in the former. However, compositional and/or structural inhomogeneities may limit their ultimate resolution. New results are presented that indicate chalcogenide glasses as promising photo and electron beam resists, which also have the advantages of greater hardness, resistance to acids, easy fabrication in thin film form, and the unique phenomena like radiation enhanced diffusion.	inorganic resist, resolution limit