Publikace detail
Development of Hard Photoresist Masks with Dry Reactive Ion Etching Photolithography
Autoři:
Jain H. | Vlček Miroslav | Kovalskiy A. | Lorinczi A. | Simmens A. | Dubey M.
Rok: 2005
Druh publikace: ostatní - přednáška nebo poster
Název zdroje:
Název nakladatele:
Místo vydání:
Strana od-do:
