Publikace detail

Nanostructuring of chalcogenide glasses using electron beam lithography

Autoři: Vlček Miroslav | Jain Himanshu

Rok: 2006

Druh publikace: článek v odborném periodiku

Název zdroje: Journal of Optoelectronics and Advanced Materials

Název nakladatele: National Institute of Optoelectronics

Místo vydání: Bukurešť

Strana od-do: 2108-2111

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Tvorba nanostruktur v chalkogenidových sklech pomocí elektronové litografie	Byla studována možnost tvorby nanostruktur v chalkogenidových sklech systému As-S pomocí elektronové litografie. Bylo prokázáno, že po expozici svazkem elektronů lze selektivně leptat tenké vrstvy těchto skel v aminových bázích, přičemž rychlost rozpouštění je lineárně závislá na expoziční dávce. Byla úspěšně realizována tvorba nanostruktur s motivy hluboko pod 100 nm v těchto sklech.
eng	Nanostructuring of chalcogenide glasses using electron beam lithography	We have investigated nanostructuring capabilities of As-S chalcogenide glasses using electron beam lithography. After exposure to electron beam the thin films of these inorganic glasses can be etched in alkaline amine solvent with high selectivity. Dissolution rate is linearly proportional to the electron dose and Gaussian electron beam intensity profile is well replicated in the shape of individual lines. High resolution smooth, shaped nanostructures have been fabricated in chalcogenide thin films with dimensions well below 100 nm and aspect ratio about 3	chalcogenide glass, nanostrusture, electron beam lithography

Vyhledávání