Publikace detail

Chalcogenide glass resists for lithography

Autoři: Jain Himanshu | Kovalskiy Andriy | Vlček Miroslav

Rok: 2014

Druh publikace: kapitola v odborné knize

Název zdroje: Chalcogenide Glasses: Preparation, Properties and Applications

Název nakladatele: Woodhead Publishing

Místo vydání: Cambridge

Strana od-do: 562-596

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Chalkogenidová skla, rezisty pro litografii	V kapitole je uveden přehled možných strukturálních a kompozičních změn v chalkogenidových sklech indukovaný expozicí v hodným zářením (VIS, UV, X - paprsky, svazek elektronů či iontů), které vedou k jejich vysoce selektivnímu mokrému, resp. suchému leptání a činí chalkogenidová skla vynikajícími rezisty s vysokým rozlišením a pro gray scale litografii. Jejich možné aplikace jako fotonové a elektronové rezisty jsou porovnány s běžně užívanými polymerními rezisty.	chalkogenidové sklo;rezist;nano litografie
eng	Chalcogenide glass resists for lithography	This chapter comprehensively reviews the possible structural and compositional changes of chalcogenide glasses induced by exposure with suitable radiation (VIS, UV, X-ray, e-beam, ions) which result in their highly selective wet or dry etching and make chalcogenide glasses superior resists for high resolution, gray scale lithography. Their photo- and e-beam resist applications are compared with those for widely used polymer resists.	chalcogenide glass;resists;nano lithography

Vyhledávání