Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Pulsed laser deposited alumina thin films
Rok: 2015
Druh publikace: ostatní - přednáška nebo poster
Strana od-do: nestránkováno
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
eng Pulsed laser deposited alumina thin films Thin alumina films with thickness from a few nanometers up to 100-200 nm were fabricated via UV PLD exploiting KrF excimer laser operating at 248 nm (300 mJ, 30 ns) under vacuum or under different pressure in Ar atmosphere. Prepared layers were characterized in terms of their morphology and topography (using SEM/AFM), structure (XRD) and optical properties (variable angle spectroscopic ellipsometry). alumina; pulsed laser deposition; thin films