Publikace detail
Fotoprotektivní aditivum zejména do nátěrových hmot a zalévacích pryskyřic
Autoři:
Kopecká K. | Zetková K. | Zima V. | Melánová Klára | Knotek Petr | Beneš Ludvík
Rok: 2021
Druh publikace: užitný vzor, průmyslový vzor
Název nakladatele: Úřad průmyslového vlastnictví
Místo vydání: Praha
Strana od-do: nestránkováno