Publikace detail
Fotoprotektivní aditivum zejména do nátěrových hmot a zalévacích pryskyřic
Autoři:
Kopecká K. | Zetková K. | Zima V. | Melánová Klára | Knotek Petr | Beneš Ludvík
Rok:
2021
Druh publikace:
užitný vzor, průmyslový vzor
Název nakladatele:
Úřad průmyslového vlastnictví
Místo vydání:
Praha
Strana od-do:
nestránkováno