Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

The World Scientific Reference of Amorphous Materials, Volume 1: Structure, Properties, Modeling and Applications of Amorphous Chalcogenides, CHAPTER 19: High-Resolution Photoresists
Rok: 2021
Druh publikace: kapitola v odborné knize
Název zdroje: The World Scientific Reference Of Amorphous Materials : Structure, Properties, Modeling And Main Applications. Vol. 1
Název nakladatele: World Scientific Publishing Co.
Místo vydání: Singapur
Strana od-do: 651-679
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze The World Scientific Reference of Amorphous Materials, Volume 1:Struktura, Vlastnosti, Modelování a Aplikace Amorfních Chalkogenidů, Kapitola 19: Fotorezisty s vysokým rozlišením Tenké vrstvy chalkogenidových skel jsou často citlivé na různé druhy záření (např. UV/viditelné, rentgenové, elektronové...). Struktura materiálu může být výrazně změněna vhodnou expozicí vyúsťující jak v pokročilou polymerizaci, tak i rozrušení chemických vazeb. Strukturní změny následně ovlivňují chemickou odolnost skla k vývojce, což má za následek selektivní leptání materiálu. To dělá chalkogenidová skla vhodným materiálem k mikro/nano strukturování. Chalkogenidová skla mohou vystupovat jak pozitivní, tak i negativní fotorezist, v závislosti na mnoha parametrech, jako je složení skla a vývojky, metody použité k depozici, teplotní historii vzorku, atd. Strukturní a chemický mechanismus zodpovědný za výrazné změny v chemické odolnosti je detailně diskutován v následující kapitole. Jsou také poskytnuty mnohé příklady strukturovaných tenkých vrstev, aplikovatelných přímo v optice, nebo i sloužící jako tradiční fotorezisty pro transfer zamýšlených struktur na substrát. Chalkogenidová Skla; Tenké vrstvy; Fotorezisty s vysokým rozlišením
eng The World Scientific Reference of Amorphous Materials, Volume 1: Structure, Properties, Modeling and Applications of Amorphous Chalcogenides, CHAPTER 19: High-Resolution Photoresists Chalcogenide glass thin films are frequently sensitive to various kinds of radiation (e.g., ultraviolet [UV]/visible [VIS], X-ray, electron beam). Structure of the material can be significantly altered by suitable irradiation causing either advanced polymerization or bond cleavage. Structural changes consequently influence the glass resistance to the developer resulting in selective etching, which makes chalcogenide glasses suitable material for micro/nano patterning. Chalcogenide glasses can act as both positive and negative photoresist in dependence on many parameters such as composition of the glass and the developer, method used for thin film deposition, thermal history of the sample, and others. Structural and chemical mechanisms accountable for significant differences in chemical resistance are discussed in detail. Multiple examples of patterned thin films applicable either directly in optics or serving as traditional photoresist transferring the desired structure to the undelaying substrate, are provided. Chalcogenide Glasses; Thin Films; High-Resolution Photoresists

Katedry

Ústavy a pracoviště

Jak nás najdete?

zobrazit na mapy.cz

Služby

Často hledáte

© 2023 Univerzita Pardubice, Studentská 95, 532 10 Pardubice 2
Telefon: 466 036 111, 466 036 112, 466 036 113
Správce webu, RSS
ID datové schránky: f5vj9hu
Prohlášení o přístupnosti
CC BY-NC-ND 4.0 CZ