Publikace detail

The Annealing Effect of the Silicon Substrates Studied by Ellipsometry

Autoři: Čechalová Božena | Mistrík Jan | Čech Vladimír

Rok: 2007

Druh publikace: ostatní - přednáška nebo poster

Strana od-do: nestránkováno

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Studium teploty Si waferů spektroelipsometrickou metodou	Elipsometrické studium teplotní závislosti optických konstant Si waferů.
eng	The Annealing Effect of the Silicon Substrates Studied by Ellipsometry	Spectroelipsometric study of temperature dependence of Si wafer.	elipsometry;Si wafer;annealing effect

Search