Příprava a studium amorfních chalkogenidových vrstev a jejich potenciální aplikace pro optický záznam a paměti.
Poskytovatel: Grantová agentura ČR
Program: Standardní projekty
Období realizace: 01.01.06 - 31.12.08
Pracoviště:
Fakulta chemicko-technologická - Katedra obecné a anorganické chemie
Hlavní řešitel: Wágner TomášSpoluřešitelé: Vlček Miroslav | Němec Petr | Gutwirth Jan | Krbal Miloš
Popis:
V navrhovaném projektu bude studována příprava amorfních chalkogenidových vrstev, připravených metodou "spin coating", pulsní laserovou deposicí a magnetronovým naprašovánímv kombinaci s opticky indukovanou difúzí a rozpouštěním stříbra (OIDR) u skelných systémů As-S, As-S-Se, Ge-Se i systému obsahujících stříbro např. Ag-As-Sb-S, Ag-Ge-Se. Kinetika OIDR bude měřena ze změny reflektivity dvojvrstev Ag/chalkogenid a spektrální elipsometrií určovány optické parametry vrstev. Pro nedestruktivní analýzy složení produktů po i v průběhu OIDR bude použita metoda Rutherfordova zpětného rozptylu iontů (RBS). Struktura připravených vrstev i vrstev připravených OIDR před i po laserové expozici bude určována (mikro)Ramanovou, UV-vis- Infračervenou spektroskopií a rentgenovou (mikro)difrakcí. Dále budou studovány i termické vlastnosti připravených tenkých vrstev a objemových vzorků diferenční skenovací kalorimetríí a fotokalorimetrií. Získané informace o složení, kinetice, struktuře a termických vlastnostech tenkých vrstev umožní usuzovat i na mechanismus vzniku vrstev při použití různých metod přípravy tenkých vrstev i na mechanismu OIDR stříbra v takto připravených tenkých vrstvách. Budou testovány potenciální aplikace optického záznamu (fázové změny, lokální změny struktury i složení, i v kombinaci se selektivním rozpouštením).
V navrhovaném projektu bude studována příprava amorfních chalkogenidových vrstev, připravených metodou "spin coating", pulsní laserovou deposicí a magnetronovým naprašovánímv kombinaci s opticky indukovanou difúzí a rozpouštěním stříbra (OIDR) u skelných systémů As-S, As-S-Se, Ge-Se i systému obsahujících stříbro např. Ag-As-Sb-S, Ag-Ge-Se. Kinetika OIDR bude měřena ze změny reflektivity dvojvrstev Ag/chalkogenid a spektrální elipsometrií určovány optické parametry vrstev. Pro nedestruktivní analýzy složení produktů po i v průběhu OIDR bude použita metoda Rutherfordova zpětného rozptylu iontů (RBS). Struktura připravených vrstev i vrstev připravených OIDR před i po laserové expozici bude určována (mikro)Ramanovou, UV-vis- Infračervenou spektroskopií a rentgenovou (mikro)difrakcí. Dále budou studovány i termické vlastnosti připravených tenkých vrstev a objemových vzorků diferenční skenovací kalorimetríí a fotokalorimetrií. Získané informace o složení, kinetice, struktuře a termických vlastnostech tenkých vrstev umožní usuzovat i na mechanismus vzniku vrstev při použití různých metod přípravy tenkých vrstev i na mechanismu OIDR stříbra v takto připravených tenkých vrstvách. Budou testovány potenciální aplikace optického záznamu (fázové změny, lokální změny struktury i složení, i v kombinaci se selektivním rozpouštením).
