Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Soft x-ray induced Ag diffusion in amorphous pulse laser deposited As50Se50 thin films: An x-ray photoelectron and secondary ion mass spectroscopy study.
Autoři: Kalyva | Siokou | Yannopoulos | Wágner Tomáš | Krbal | Orava | Frumar Miloslav
Rok: 2008
Druh publikace: článek v odborném periodiku
Název zdroje: Journal of Applied Physics
Název nakladatele: American Institute of Physics
Místo vydání: Melville
Strana od-do: 043704/1-043704/7
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze Difůze stříbra vyvolaná v amorfních tenkých vrstvách As50Se50 deponovaných pulzním laserem měkkým rentgenovým zářením: Studie rentgenovou fotoelektronovou spektroskopií a hmotnostní spektroskopií sekundárních iontů. Rentgenovou fotoelektronovou spektroskopií a hmotnostní spektroskopií sekundárních iontů byla studována difůze stříbra vyvolaná v amorfních tenkých vrstvách As50Se50 deponovaných pulzním laserem měkkým rentgenovým zářením. amorfní chalkogenidy;tenké vrstvy;XPS;SIMS;difúze
eng Soft x-ray induced Ag diffusion in amorphous pulse laser deposited As50Se50 thin films: An x-ray photoelectron and secondary ion mass spectroscopy study. Soft x-ray induced Ag diffusion in amorphous pulse laser deposited As50Se50 thin films was studied by x-ray photoelectron and secondary ion mass spectroscopy. amorphous chalcogenides;thin films;XPS;SIMS;diffusion