Publikace detail
Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning
Autoři:
Kovalskiy A. | Vlček Miroslav | Cech J. | Heffner W.R. | Waits C.M. | Dubey M. | Jain H.
Rok: 2009
Druh publikace: článek v odborném periodiku
Název zdroje: Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
Název nakladatele: SPIE - The International Society for Optical Engineering
Strana od-do: 0430121-04301211
