Publikace detail
Chalcogenide glass e-beam and photo-resists for ultrathin gray scale patterning
Autoři:
Kovalskiy A. | Vlček Miroslav | Cech J. | Heffner W.R. | Waits C.M. | Dubey M. | Jain H.
Rok:
2009
Druh publikace:
článek v odborném periodiku
Název zdroje:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS
Název nakladatele:
SPIE - The International Society for Optical Engineering
Strana od-do:
0430121-04301211
