Publikace detail

Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering

Autoři: Skoupil Pavel | Cameron David | Kalenda Petr

Rok: 2006

Druh publikace: článek ve sborníku

Název zdroje: Conference Papers CCT 2006

Název nakladatele: Univerzita Pardubice

Místo vydání: Pardubice

Strana od-do: 500-507

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Příprava tenkých filmů oxidu niobičného pomocí reaktivního naprašování magnetronem	Tenké filmy oxidu niobičného byly deponovány na silikonove, titanové a sklenéné substráty procesem PVD. Terče z čistého niobu byly zdroj k odpaření. Směs argon kyslík byla použita jako reaktivní atmosféra v naprašovací komoře.	FTIR, filmy, vodivost, Ramanova spektroskopie, oxid niobičný
eng	Preparation of Nb2O5 thin Films by d.c. Reactive Magnetron Sputtering	Thin films of niobium oxide were deposited on silicon wafer, titanium and glass by the process of physical vapour deposition. Pure niobium solid target was used as a sputter source. Argon-oxygen admixture was introduced into the discharge chamber.	FTIR, films, conductivity, Raman spectroscopy, niobium oxide

Vyhledávání