Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Self-assembled monolayers of vinyltriethoxysilane and vinyltrichlorosilane deposited on silicon dioxide surfaces
Autoři: Bábík Adam | Mistrík Jan | Zemek Josef | Čech Vladimír
Rok: 2012
Druh publikace: článek v odborném periodiku
Název zdroje: Journal of Adhesion Science and Technology
Název nakladatele: Taylor & Francis Ltd.
Místo vydání: Abingdon
Strana od-do: 2543-2554
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze Samouspořádané multivrstvy vinyltriethoxysilanu and vinyltrichlorosilanu deponované na povrchu SiO2 Tato práce se zaměřuje na depozici samouspořádaných multivrstev (SAMs) za použití molekul vinyltriethoxysilanu (VTES) a vinyltrichlorosilanu (VTCS) chemisorbovaných na povrchu SiO2. Kinetika formování SAM vrstev na skleněných substrátech a křemíkových waferech byla charakterizována měřením kontaktního úhlu. Povrchová volná energie a její rozdělení do polárních složek dovoluje odhadnout čas ponoření potřebný k depozici kompaktní SAM. Adsorpce molekul organosilanů jako funkce času ponoření byla charakterizována X-ray fotoelektronovou spektroskopií.Tloušťka SAM byla určena pomocí spektroskopické elipsometrie. Povrchová topografie deponovaných vrstev byla zkoumána pomocí mikroskopie atomárních sil (AFM). Systém VTCS / sklo vykazoval nejrychlejší kinetiku, ale depozice nebyla homogenní a zahrnovala místní aglomeráty. Hydrofobní vinylové skupiny deponované na povrchu mají povrchovou volnou energii 32 mJ / m(2). samouspořádané monovrsty; organosilany; kontaktní úhel; povrchová volná energie; ellipsometrie; mikroskopie atomárních sil (AFM); X-ray fotoelektronová spektroskopie (XPS)
eng Self-assembled monolayers of vinyltriethoxysilane and vinyltrichlorosilane deposited on silicon dioxide surfaces This study was aimed at deposition of self-assembled monolayers (SAMs) using vinyltriethoxysilane (VTES) and vinyltrichlorosilane (VTCS) molecules chemisorbed on silicon dioxide surfaces. The kinetics of SAM formation on planar glass substrates and silicon wafers was characterized by contact angle measurements. The surface free energy and its dispersion and polar components enabled to estimate the time of immersion required to deposit compact SAMs. Adsorption of organosilane molecules as a function of immersion time was characterized by X-ray photoelectron spectroscopy. The SAM thickness was evaluated by spectroscopic ellipsometry. Surface topography of deposited layers was investigated by atomic force microscopy (AFM). The VTCS/glass combination exhibited the fastest kinetics but the deposit was not uniform and included local agglomerates. The hydrophobic vinyl groups at deposit surface resulted in a surface free energy of 32 mJ/m(2). self-assembled monolayers; organosilanes; contact angle; surface free energy; ellipsometry; atomic force microscopy (AFM); X-ray photoelectron spectroscopy (XPS)