Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Large-area inverse opal structures in a bulk chalcogenide glass by spin-coating and thin-film transfer
Autoři: Kohoutek Tomáš | Orava Jiří | Střižík Lukáš | Wágner Tomáš | Greer A. L. | Bardosova M. | Fudouzi H.
Rok: 2013
Druh publikace: článek v odborném periodiku
Název zdroje: Optical Materials
Název nakladatele: Elsevier Science BV
Místo vydání: Amsterdam
Strana od-do: 390-395
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze Velkoplošné inverzní opálové struktury v objemových chalkogenidových sklech metodou spin-coating a přenosem tenké vrstvy Velké (cm x cm) plochy s homogenní tloušťky inverzních opálových fotonických krystalů a inverzních opálových monovrstev byly připraveny do chalkogenidových skel As30S70 s vysokým indexem lomu. Vyvinuli jsme efektivní levný proces pro výrobu fotonických struktur v chalkogenidových sklech z šablony tenké vrstvy křemenného koloidního krystalu (multi- a monovrstva). Roztok chalkogenidového skla je nanesena metodou spin-coating přes šablonu křemenné opálové vrstvy a vyplněná kompozitní vrstva (chlakogenid/opál) je pak vyzdvižena a přenesena chalkogenidový disk při 225 °C následované odstraněním šablony v kyselině fluorovodíkové. Extra krok představený v této práci (přenos) umožňuje reprodukovatelnost a výrobu velkých ploch na objemových chalkogenidových sklech. Úplné vyplnění křemenné šablony je možné díky nanokoloidní povaze roztoku chalkogenidového skla a efektivnímu odstranění rozpouštědla temperací tenké vrstvy. Výsledná multivrstva chalkogenidového inverzního opálu vykazuje Braggův pík při 670 nm s odrazivostí 70%, zatímco inverzní opálová monovrstva vykazuje anti-odrazivost <2% v blízké infračervené oblasti (1215-1660 nm). chalkogenidová skla; inverzní opál; fotonické struktury; spin-coating
eng Large-area inverse opal structures in a bulk chalcogenide glass by spin-coating and thin-film transfer Large (cm × cm), uniform-thickness areas of an inverse-opal photonic crystal and an inverse-opal monolayer were fabricated in a high-refractive-index As30S70 chalcogenide glass. We have developed an effective low-cost, solution-based process for fabrication of photonic structures in chalcogenide glass from silica-colloidal-crystal thin-film templates (multi- and monolayer). The chalcogenide-glass solution is spin-coated over the silica-opal film template and the infilled composite structure (chalcogenide/opal) is then lifted-off and transferred onto the chalcogenide-glass disc at 225 C, followed by removal of the template in hydrofluoric acid. The extra step introduced in this work (lift-off and transfer) allows a reproducible and large-area structure to be fabricated on a bulk chalcogenide glass. Complete infilling of the silica template is possible due to the nano-colloidal nature (particle size 2-8 nm) of the chalcogenide-glass solution and effective solvent release from the spin-coated chalcogenide film during post-annealing. The resulting chalcogenide-glass inverse-opal multilayer exhibits a Bragg peak at 670 nm with a reflectance 70%, while the inverse-opal monolayer shows anti-reflectance behaviour <2% in the near-infrared region (1215-1660 nm). chalcogenide glasses; inverse opal; photonic structures; spin-coating