Publikace detail

Study of As50Se50 Thin Film Dissolution Kinetics in Amine based Solutions

Autoři: Pálka Karel | Vlček Miroslav | Kovalskiy Andriy

Rok: 2013

Druh publikace: článek v odborném periodiku

Název zdroje: Physics Procedia

Název nakladatele: Elsevier Science BV

Místo vydání: Amsterdam

Strana od-do: 114-119

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Studie kinetiky leptání tenkých vrstev As50Se50 v roztocích na bázi aminů	Chalkogenidová skla jsou vhodnými materiály pro tvorbu mikro optických elementů díky jejich vhodným fyzickým a chemickým vlastnostem. Obvykle jsou fotocitlivá a mohou být selektivně leptána. Mohou být tedy použity jako fotorezisty pro fotolitografii. Tento článek pojednává o kinetice leptání tenkých vrstev složení As50Se50 v roztocích na bázi EDA. Detailní průběh leptacích křivek je diskutován a je je popsána závislost průměrné leptací rychlosti na složení a teplotě leptací lázně.	tenké vrstvy chalkogenidových skel; leptání; As50Se50
eng	Study of As50Se50 Thin Film Dissolution Kinetics in Amine based Solutions	Chalcogenide glass thin films are suitable materials for micro optical elements fabrication due to their convenient physical and chemical properties. They are generally photosensitive and thus can be selectively etched. Therefore they can be exploited as photoresists in photolithography. In this paper we deal with the study of As50Se50 thin films dissolution kinetics in EDA based solutions. The detailed evolution of the etching curves is discussed and the dependences of the average etching rate on the composition and temperature of the etching bath are described.	Chalcogenide thin film; Etching; As50Se50

Vyhledávání