Publikace detail

Temperature studies of optical parameters of (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) thin films prepared by rapid thermal evaporation and pulse laser deposition

Rok: 2016

Druh publikace: článek v odborném periodiku

Název zdroje: Optical Materials

Název nakladatele: Elsevier Science BV

Místo vydání: Amsterdam

Strana od-do: 224-229

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Teplotní studie optických parametrů tenkých vrstev (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) připravených mžikovým termickým napařováním a pulzní laserovou depozicí	Tenké vrstvy (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) byly deponovány mžikovým termickým napařováním a pulzní laserovou depozicí. Optická propustnost tenkých vrstev byla studována v teplotním intervalu 77-300 K. S ohledem na silnou elektron-fononovou interakci bylo pozorováno Urbachovo chování optické absorpční hrany tenkých vrstev. Byly určeny hlavní parametry Urbachovy absorpční hrany. Teplotní závislosti polohy exponenciální absorpční hrany a Urbachova energie jsou dobře popsány Einsteinovým modelem.	tenké vrstvy; mžikové napařování; pulzní laserová depozice
eng	Temperature studies of optical parameters of (Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) thin films prepared by rapid thermal evaporation and pulse laser deposition	(Ag3AsS3)(0.6)(As2S3)(0.4) thin films were deposited using rapid thermal evaporation (RTE) and pulse laser deposition (PLD) techniques. Optical transmission spectra of the thin films were studied in the temperature range 77-300 K. The Urbach behaviour of the optical absorption edge in the thin films due to strong electron-phonon interaction was observed, the main parameters of the Urbach absorption edge were determined. Temperature dependences of the energy position of the exponential absorption edge and the Urbach energy are well described in the Einstein model.	Thin film; Rapid thermal evaporation; Pulse laser deposition

Vyhledávání

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Katedry

Ústavy a pracoviště

Jak nás najdete?

Služby

Často hledáte