Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications
Rok: 2019
Druh publikace: článek v odborném periodiku
Název zdroje: Journal of Non-Crystalline Solids
Název nakladatele: Elsevier Science BV
Místo vydání: Amsterdam
Strana od-do: 7-14
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze Srovnání optických a chemických vlastností napařených a spin-coatingem deponovaných tenkých vrstev As-S s cílením na aplikace elektronové litografie V práci jsou porovnávány optické a chemické vlastnosti tenkých amorfních vrstev As30S70, As35S65 a As40S60 připravených metodami vakuového napařování a spin-coatingem. Strukturní a kompoziční rozdíly způsobené zvolenou depoziční technikou a podepozičními procesy byly zkoumány metodami Ramanovy spektroskopie a EDS. Použitelnost studovaných tenkých vrstevpro elektronovou litografii byla studována pomocí mono- a diaminových leptacích roztoků. Vakuově napařené tenké vrstvy vykazovaly negativní typ leptání a naopak spin-coatingem deponované tenké vrstvy pak leptání pozitivní. Studované tenké vrstvy se ukázaly jako vhodné pozitivní a negativní fotorezisty pro grey-scale a stel-like litografii. rozpouštění; skla; tloušťka
eng Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications Presented work compares optical and chemical properties of As30S70, As35S65 and As40S60 amorphous chalcogenide thin films deposited by thermal evaporation and by spin-coating. Structural and compositional differences given by the chosen deposition technique and post deposition treatment were revealed by Raman spectroscopy and EDS. Applicability of studied thin films in electron beam lithography was investigated using both monoamine and diamine based developers. Thermally evaporated thin films exhibited negative etching contrary to the spin-coated films which showed positive etching. Studied thin films proved to be suitable positive and negative photoresists for both grey-scale and step-like lithography. dissolution; glasses; thickness