Univerzita Pardubice Fakulta chemicko- technologická

Univerzita Pardubice

Zaměstnanci
|
Studenti
English

Publikace detail

FOTOASISTOVANÉ LEPTÁNÍ TENKÝCH VRSTEV CHALKOGENIDOVÉHO SKLA As2S3

Autoři: Jančálek Jiří | Pálka Karel | Vlček Miroslav

Rok: 2019

Druh publikace: ostatní - přednáška nebo poster

Strana od-do: nestránkováno

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	FOTOASISTOVANÉ LEPTÁNÍ TENKÝCH VRSTEV CHALKOGENIDOVÉHO SKLA As2S3	Chalkogenidová skla a jejich tenké vrstvy jsou materiály studované pro své výjimečné optické vlastnosti, zvláště pro vysoké hodnoty indexu lomu a širokou oblast propustnosti v IČ oblasti spektra. Pro řadu aplikací tenkých vrstev chalkogenidových skel je třeba jejich strukturování, k čemuž je využíváno řady litografických metod (optická litografie, litografie elektronovým svazkem, či přímý laserový zápis aj. [1,2]), z nichž velká část využívá mokrého leptání. V rámci této práce byl studován vliv fyzikálně-chemických podmínek na selektivitu fotoasistovaného leptání (simultánní mokré leptání a expozice monochromatickým zářením) tenkých vrstev As2S3 deponovaných metodami vakuového napařování a spin-coating v aminových leptacích lázních. Na rozdíl od vrstev leptaných po expozici, kdy u napařených tenkých vrstev dochází ke zvýšení chemické odolnosti v důsledku fotopolymerace [3], bylo v případě fotoasistovaného leptání vrstev pozorováno zpravidla snížení chemické odolnosti. Byla zjištěna závislost selektivity leptání (poměr leptacích rychlostí exponovaných a neexponovaných vzorků) na metodě depozice tenkých vrstev, intenzitě expozičního záření, teplotní historii vzorků i složení použité lázně. Vysoká selektivita leptání byla pozorována i při leptání temperovaných napařených vrstev, které jsou vzhledem k stabilizované struktuře málo fotocitlivé pro tradiční litografické strukturování. Díky možnosti řízení selektivity leptání podmínkami leptání a díky konstrukční jednoduchosti metody je fotoasistované leptání zajímavou alternativou běžně používaných metod strukturování.