Publikace detail

Thickness Distribution of Amorphous Chalcogenide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition.

Autoři: Pavlišta Martin | Hrdlička | Němec Petr | Přikryl | Frumar Miloslav

Rok: 2008

Druh publikace: článek v odborném periodiku

Název zdroje: Applied Physics A-Materials Science & Procesing

Název nakladatele: Springer

Strana od-do: 617-620

Tituly:

Jazyk	Název	Abstrakt	Klíčová slova
cze	Tloušťkové rozložení amorfních chalkogenidových filmů připravených pulzní laserovou depozicí	Pulzní laserovou depozicí (KrF excimer laser) byly připraveny amorfní chalkogenidové filmy ze skelných materiálů As2Se3, As3Se2 a InSe. Tloušťkové profily byly určeny pomocí VASE. Byl určen vliv skenovací techniky laserového paprsku během depozice na tvar distribuce tloušťky připravených filmů a byl popsán příslušnými rovnicemi. Výsledky byly porovnány s experimentálními daty.	chalkogenidové filmy;tloušťkové rozložení;tenké filmy;PLD
eng	Thickness Distribution of Amorphous Chalcogenide Films Prepared by Pulsed Laser Deposition.	Amorphous chalcogenide thin films were prepared from As2Se3, As3Se2 and InSe bulk glasses by pulsed laser deposition using a KrF excimer laser. Thickness profiles of the films were determined using variable angle spectroscopic ellipsometry. The influence of the laser beam scanning process during the deposition on the thickness distribution of the prepared thin films was evaluated and the corresponding equations suggested. The results were compared with experimental data.	Chalcogenide-film;Thickness distribution;Thin-films;PLD

Search