Přejít k hlavnímu obsahu

Přihlášení pro studenty

Přihlášení pro zaměstnance

Publikace detail

Cyklické silylselenidy: organické sloučeniny selenu jako prekurzory pro depozice atomárních vrstev
Rok: 2020
Druh publikace: ostatní - přednáška nebo poster
Strana od-do: nestránkováno
Tituly:
Jazyk Název Abstrakt Klíčová slova
cze Cyklické silylselenidy: organické sloučeniny selenu jako prekurzory pro depozice atomárních vrstev Zajímavé vlastnosti nanovrstev selenidů přechodných kovů lze s úspěchem využívat v elektronice, fotokatalýze a dalších mnoha aplikacích. Stále větší oblibu pro tvorbu tenkých filmů získává ALD (Atomic Layer Deposition), především díky schopnosti nanášet požadované vrstvy s minimálním počtem defektů na různě tvarované povrchy jako nanočástice nebo nanotrubice. Pro depozice selenidů však bylo testováno pouze několik látek, a to vysoce toxický H2Se nebo Et2Se, který však na rozdíl od příbuzné metody CVD neposkytuje uspokojivé výsledky. V roce 2009 představené bis(trialkylsilyl)selenidy s vysokou těkavostí a reaktivitou dosahují excelentních výsledků při depozicích tenkých vrstev. Nevýhodou bis(trialkylsilyl)selenidů je však jejich vysoká citlivost na vzdušnou vlhkost. Tato práce navrhuje tři cyklické silylselenidy, obsahující jeden či dva atomy selenu, s cílem zvýšit chemickou odolnost vůči vzduchu, avšak při ponechání požadovaných vlastností původní bis(trialkylsilyl) selenidové série. Popsaná syntéza cílových látek je doplněna strukturní analýzou pomocí GC/MS a NMR spektroskopie. Termální vlastnosti byly studovány s využitím DSC a TG analýz. Diskutována je i zmíněná odolnost vůči vzdušné vlhkosti a nakonec samotná depozice tenkých vrstev MoSe2 reakcí cyklického silylselenidu s MoCl5, kdy nejlepších výsledku bylo dosaženo za použití selenidu 3. silylselenidy; ALD; termální vlastnosti; těkavost